氧化铝粉专用高铝匣钵
氧化铝粉专用高铝匣钵
使用温度:≮1650℃
表面光洁不掉粉、不掉渣.
不含游离态二氧化硅。
NaO≤0.15%
气孔率：18-20%
at1650℃无挥发物质；
用途：5N氧化铝粉体高温煅烧；高纯度氧化锆粉体煅烧，高腐蚀性粉体煅烧等等。
上一个：
没有了
使用温度:≮1650℃
表面光洁不掉粉、不掉渣.
不含游离态二氧化硅。
NaO≤0.15%
气孔率：18-20%
at1650℃无挥发物质；
用途：5N氧化铝粉体高温煅烧；高纯度氧化锆粉体煅烧，高腐蚀性粉体煅烧等等。